Archivio istituzionale della ricerca dell'Università degli Studi di Palermo
IRIS è il sistema di gestione integrata dei dati della ricerca (persone, pubblicazioni, progetti, attività) adottato dall’Università di Palermo, e ha lo scopo di raccogliere, conservare, documentare, e diffondere ad accesso aperto le informazioni relative alla produzione scientifica degli autori afferenti all’Ateneo.
EnglishWe report on the improvement of short circuit current (JSC), fill factor (FF), and open circuit resistance (ROC) in hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) photovoltaic cells with a p-type/intrinsic/n-type structure, achieved by the addition of an ultra-thin molybdenum film between the p-type film and the transparent conductive oxide/glass substrate. For suitable conditions,improvements of ~10% in average internal quantum efficiency and up to 5%–10% under standard illumination in JSC, FF, and ROC are observed. These are attributed to the excitation of surface plasmon polariton modes of the a-Si:H/Mo interface
Lombardo, S., Tringali, C., Cannella, G., Battaglia, A., Foti, M., Costa, N., et al. (2012). Plasmonic effects of ultra-thin Mo films on hydrogenated amorphous Si photovoltaic cells. APPLIED PHYSICS LETTERS, 101(12), 123902-1-123902-4 [10.1063/1.4753936].
| Data di pubblicazione: | 2012 | |
| Titolo: | Plasmonic effects of ultra-thin Mo films on hydrogenated amorphous Si photovoltaic cells | |
| Autori: | ||
| Citazione: | Lombardo, S., Tringali, C., Cannella, G., Battaglia, A., Foti, M., Costa, N., et al. (2012). Plasmonic effects of ultra-thin Mo films on hydrogenated amorphous Si photovoltaic cells. APPLIED PHYSICS LETTERS, 101(12), 123902-1-123902-4 [10.1063/1.4753936]. | |
| Rivista: | ||
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1063/1.4753936 | |
| Appare nelle tipologie: | 1.01 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
| File | Descrizione | Tipologia | Licenza | |
|---|---|---|---|---|
| _ojpstmp_stampPdf_d_17T08_18_APPLAB_101_12_123902_1.pdf | N/A | Administrator Richiedi una copia |
http://hdl.handle.net/10447/64558
Copyright © 2022