Archivio istituzionale della ricerca dell'Università degli Studi di Palermo
IRIS è il sistema di gestione integrata dei dati della ricerca (persone, pubblicazioni, progetti, attività) adottato dall’Università di Palermo, e ha lo scopo di raccogliere, conservare, documentare, e diffondere ad accesso aperto le informazioni relative alla produzione scientifica degli autori afferenti all’Ateneo.
EnglishA microlithographic process suited for metal patterning on cylindrical dielectric substrates has been developed. This includes all steps from metal coating to final etching, with resolution in the 5 μm range.
Lullo G., Arnone C., & Giaconia G.C. (1997). Technologies for the fabrication of cylindrical fine line devices. MICROELECTRONIC ENGINEERING, 35(1-4), 417-420.
| Data di pubblicazione: | 1997 |
| Titolo: | Technologies for the fabrication of cylindrical fine line devices |
| Autori: | |
| Citazione: | Lullo G., Arnone C., & Giaconia G.C. (1997). Technologies for the fabrication of cylindrical fine line devices. MICROELECTRONIC ENGINEERING, 35(1-4), 417-420. |
| Rivista: | |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1016/S0167-9317(96)00118-9 |
| Abstract: | A microlithographic process suited for metal patterning on cylindrical dielectric substrates has been developed. This includes all steps from metal coating to final etching, with resolution in the 5 μm range. |
| Settore Scientifico Disciplinare: | Settore ING-INF/01 - Elettronica |
| Appare nelle tipologie: | 1.01 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
| File | Descrizione | Tipologia | Licenza | |
|---|---|---|---|---|
| Technologies for fabrication of Cylindrical fine line devices.pdf | Versione Editoriale | Administrator Richiedi una copia |
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/10447/427584
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Copyright © 2020